氫氣純化裝置是一種以氫氣為原料,通過催化除氧冷卻除水,吸附干燥的氫氣純化設備。它主要由預加熱器、除氧器、冷卻器、冷干機、干燥器、儀表控制系統等部件組成。 工作原理 本裝置先將原料氫氣加熱后,使其進入裝有鈀催化劑的除氧器。在除氧器中氫氣中的微量氧與氫氣在催化劑作用下,發生氫氧反應生成水汽O2+2H2→2H。
本裝置先將原料氫氣加熱后,使其進入裝有鈀催化劑的除氧器。在除氧器中氫氣中的微量氧與氫氣在催化劑作用下,發生氫氧反應生成水汽O2+2H2→2H2O,再經冷凝除水達到除氧之目的。經除氧、除水后的氫氣再經裝有分子篩的干燥器進行深度吸附干燥處理。從而獲得含水量、含氧量極低的高純氫氣。
高純氫氣廣泛應用于石油化工、電子工業、電子半導體、冶金工業、機械、食品加工、浮法玻璃、高純材料和光電材料等產業部門和科學研究中、生產部門亦可作為熱處理保護氣體以及精細有機合成、航空航天等方面有著廣泛的應用。例如本機已在精密合金熱處理、航天航空、半導體硅材料、硅外延、化合物半導體等的生產中的應用,效果都很好。
主要技術性能
處理氣量:0.5~2000Nm3/h
原料氫氣氧含量:≤2%
產品氫氣氧含量:≤1ppm
產品氫氣露點:≤-60~-70℃
產品氮氣壓力:0.1~1.0Mpa
干燥器切換方式:自動或手動
結構形式:帶面板的框架結構或箱式
主要特點
工藝流程簡單、除氧深度深、露點低;
電氣裝置按隔爆要求設計.采用蒸汽加熱,冰水冷卻,加熱冷卻自動由調閥控制流量;
運行成本低,設備投資少;
操作方便、維護簡便;
可靠性高。
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